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160亿元长沙三安第三代半导体项目迎新进展

来源:米兰官方体育    发布时间:2024-11-18 07:52:59

  据长沙发布报道,长沙三安第三代半导体项目长假期间未停工,其中为主厂房提供动力的主要辅助建筑——C2综合动力站日前率先完成封顶。

  位于长沙高新区的长沙三安第三代半导体项目,总占地面积1000亩、投资160亿元,主要建设具有自主知识产权的衬底(碳化硅)、外延、芯片及封装产业生产基地,项目建成达产后将形成超百亿元的产业规模,并带动上下游配套产业产值预计逾千亿元。

  7月20日,长沙三安第三代半导体项目开工活动在长沙高新区举行。长沙三安半导体项目基础施工在8月中旬完成后,首批施工单体已全方面进入主体施工阶段。

  长沙晚报曾在9月报道,该项目首批施工单体已全方面进入主体施工阶段,春节前完成所有单体封顶。

  作为第三代半导体产业高质量发展的重要基础材料,碳化硅MOSFET具有更高的开关频率和使用温度,能够减小电感、电容、滤波器与变压器等组件的尺寸,提高系统电力转换效率,并且降低对热循环的散热要求。 在电力电子系统中,应用碳化硅MOSFET器件替代传统硅IGBT器件,能轻松实现更低的开关和导通损耗,同时具有更高的阻断电压和雪崩能力,显著提升系统效率及功率密度,以此来降低系统综合成本。 图:SiC/Si器件效率对比 一、行业典型应用 碳化硅MOSFET的主要应用领域包括:充电桩电源模块、光伏逆变器、光储一体机、新能源汽车空调、新能源汽车OBC、工业电源、电机驱动等。 1.充电桩电源模块 与下游数量较多的充电桩制造商和运营商不同

  •2023年可再次生产的能源发电购电量占比从2022年的62%增至71%,稳步朝着在2027年实现碳中和范围1和2全部目标、范围3部分目标这一承诺迈进 •87%的员工推荐意法半导体为理想工作场所 •将公司净营收的12.2% (21亿美元)投入研发,支持创新 2024年4月18日,中国 – 服务多重电子应用领域、全球排名前列的半导体公司意法半导体(STMicroelectronics,简称ST;) 今天公布了可持续发展年报, 展示了为全体利益相关者创造长期价值和推动公司业务可持续发展,2023年ST在环境保护、社会责任和企业治理方面取得的成绩。 意法半导体总裁、首席执行官 Jean Marc Chery 表示:“可持续发展是

  宜普电源转换公司(Efficient Power Conversion Corporation, EPC,以下简称宜普公司)于今日宣布其名为“补偿门极MISFET及其制造方法”的专利(中国专利号ZL5.X)被中国国家知识产权局确认有效,该专利大范围的应用于增强型氮化镓半导体器件。 该决定于2024年4月30日作出。此前,中国国家知识产权局还曾于2024年4月2日作出决定,确认宜普公司的名为“增强型氮化镓高电子迁移率晶体管器件及其制备方法”的专利(中国专利号ZL8.2)的核心权利维持有效。这两项专利的无效请求人均为英诺赛科(苏州)科技有限公司(以下简称英诺赛科公司)。 与传统硅基功率器

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